在線線速度61m/s四級高速乳化機是高效、高速、均勻地將一個相或多個相(液體、固體)進入到另一互不相溶的連續相(通常液體)的過程的設備的設備。當其中一種或者多種材料的細度#到微米數量級時，甚至納米級時，體系可被認為均質。當外部能量輸入時，兩種物料重組成為均一相。高剪切均質機由于轉子#速旋轉所產生的高切線速度和高頻機械效應帶來的強勁動能，使物料在定、轉子狹窄的間隙中受到強烈的機械及液力剪切、離心擠壓、液層摩擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用，形成懸浮液（固/液），乳液（液體/液體）和泡沫（氣體/液體）。

四級在線式超高速均質機的高的轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是重要的。根據一些行業特殊要求，IKN在ERS4000系列的基礎上又開發出ERX4000超高速剪切均質機。其剪切速率可以過15000 rpm，轉子的速度可以#到66m/s。在該速度范圍內，由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強，乳液的粒經分布更窄。由于能量密度高,無需其他輔助分散設備。

ERX4000系列是一種在線式四級超高剪切超高速分散機，以達到超細的乳液和懸浮液。極高的剪切速率（高達410.000 1/S）與分散頭的精密幾何結構相結合能使液滴和固體顆粒粉碎到納米級。由此產生的物料，具有長期的穩定性。從而減少了對乳化劑和增稠劑的需要。由于極高的能量密度，就能減少使用或甚至不需要使用其他的分散助劑。

MP系列適用于需要在真空狀態下乳化攪拌的產品。可配置高剪切乳化機使用，該設備的核心是依肯EBI2000系列，該系列設備直接和預混罐安裝在一起，有2級設計，擁有更多的功能和靈活性。適合分散、乳化、均質、攪拌混合等工藝過程。能夠確保產品的最終質量，并且極大縮短生產時間。

CM2000系列是專門為膠體溶液生產所設計，特別是那些需要很好乳化和分散效果的膠體生產。CM2000的線速度很高，剪切間隙非常小，這樣當物料經過的時候，形成的摩擦力就比較劇烈，結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。

CMO2000系列錐體磨（膠體磨），它的創新設計使其功能在原有的CM2000系列膠體磨的基礎上又進了一步。由于這項創新，CMO2000系列錐體磨（膠體磨）能夠濕磨和研磨，產生的顆粒粒徑甚至比CM2000系列膠體磨還小，錐體磨（膠體磨）的研磨間隙可以無級調節，從而可以得到精確的研磨參數。

CMD2000系列改良型膠體磨，研磨分散設備是IKN（上海）公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝，我們將三級變更為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經過膠體磨細化物料，然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）

CMSD系列，采用德國技術，設備轉速可高達14000rpm，是國產設備的4-5倍；磨頭結構為三級錯齒，溝槽深度從上到下為由深到淺，溝槽的寬度也是從上到下為由大到小，這樣每級都會對物料更進一步的研磨粉碎。而國產膠體磨從上到下的寬度都是*的，所以研磨粉碎的效果很有限。IKN膠體磨采用德國博格曼雙端面機械密封，并配有機密冷卻系統，在確保冷卻水的情況下，可24小時連續生產。

CMXD系列采用圓椎形定轉子,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。